Notice: Undefined index: linkPowrot in C:\wwwroot\wwwroot\publikacje\publikacje.php on line 1275
[23010] Artykuł: Raman studies of C-Ni/Ti films deposited on Si (100)Czasopismo: Proc. SPIE, Photonics Applications in Astronomy, Communications, Industry, and High-Energy Physics Experiments 2015 Tom: 9662, Strony: 1-7ISSN: 0277-786X ISBN: 978-1-62841-880-4 Wydawca: SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, WA 98227-0010 USA Opublikowano: Wrzesień 2015 Seria wydawnicza: Proceedings of SPIE Autorzy / Redaktorzy / Twórcy Grupa MNiSW: Materiały z konferencji międzynarodowej (zarejestrowane w Web of Science) Punkty MNiSW: 15 Klasyfikacja Web of Science: Proceedings Paper DOI Web of Science Keywords: C-NiTi films  PVD  Raman spectroscopy  PCA  |
The thin films of carbon-nickel (C-Ni) nanocoposites were deposited on Ti-evaporated Si (100) substrate using Physical Vapour Deposition (PVD) method. Influence of evaporated titanium on carbonaceous structure of C-Ni films were investigated by Raman spectroscopy method. The fullerite-graphite structure was recognize using principal component analysis (PCA) of obtained Raman spectra.