Notice: Undefined index: linkPowrot in C:\wwwroot\wwwroot\publikacje\publikacje.php on line 1275
Publikacje
Pomoc (F2)
[23010] Artykuł:

Raman studies of C-Ni/Ti films deposited on Si (100)

Czasopismo: Proc. SPIE, Photonics Applications in Astronomy, Communications, Industry, and High-Energy Physics Experiments 2015   Tom: 9662, Strony: 1-7
ISSN:  0277-786X
ISBN:  978-1-62841-880-4
Wydawca:  SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, WA 98227-0010 USA
Opublikowano: Wrzesień 2015
Seria wydawnicza:  Proceedings of SPIE
 
  Autorzy / Redaktorzy / Twórcy
Imię i nazwisko Wydział Katedra Procent
udziału
Liczba
punktów
Radosław Belka orcid logoWEAiIKatedra Systemów Informatycznych *145.00  
Justyna Kęczkowska orcid logoWEAiIKatedra Systemów Informatycznych *145.00  
Małgorzata Suchańska orcid logoWEAiIKatedra Systemów Informatycznych *145.00  
Piotr Firek14.00  
Halina Wronka14.00  
Joanna Radomska14.00  
Elżbieta Czerwosz14.00  

Grupa MNiSW:  Materiały z konferencji międzynarodowej (zarejestrowane w Web of Science)
Punkty MNiSW: 15
Klasyfikacja Web of Science: Proceedings Paper


DOI LogoDOI     Web of Science Logo Web of Science    
Keywords:

C-NiTi films  PVD  Raman spectroscopy  PCA 



Abstract:

The thin films of carbon-nickel (C-Ni) nanocoposites were deposited on Ti-evaporated Si (100) substrate using Physical Vapour Deposition (PVD) method. Influence of evaporated titanium on carbonaceous structure of C-Ni films were investigated by Raman spectroscopy method. The fullerite-graphite structure was recognize using principal component analysis (PCA) of obtained Raman spectra.