Notice: Undefined index: linkPowrot in C:\wwwroot\wwwroot\publikacje\publikacje.php on line 1275
Publikacje
Pomoc (F2)
[93710] Artykuł:

Preparation of n-CuO nanostructural films by thermal oxidation/PVD method

Czasopismo: Proceedings of SPIE   Tom: 11176, Strony: 1-8
ISSN:  1996-756X
ISBN:  978-1-5106-3066-6
Wydawca:  SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, WA 98227-0010 USA
Opublikowano: Listopad 2019
Seria wydawnicza:  Proceedings of SPIE
 
  Autorzy / Redaktorzy / Twórcy
Imię i nazwisko Wydział Katedra Do oświadczenia
nr 3
Grupa
przynależności
Dyscyplina
naukowa
Procent
udziału
Liczba
punktów
do oceny pracownika
Liczba
punktów wg
kryteriów ewaluacji
Justyna Kęczkowska orcid logo WEAiIKatedra Systemów Informatycznych *Niespoza "N" jednostkiAutomatyka, elektronika, elektrotechnika i technologie kosmiczne172.50.00  
Małgorzata Suchańska orcid logo WEAiIKatedra Systemów Informatycznych *Niespoza "N" jednostkiAutomatyka, elektronika, elektrotechnika i technologie kosmiczne172.50.00  
Elżbieta Czerwosz Niespoza "N" jednostki17.00.00  
Halina Wronka Niespoza "N" jednostki16.00.00  
Mirosław Kozłowski Niespoza "N" jednostki17.00.00  
Ryszard Diduszko Niespoza "N" jednostki16.00.00  

Grupa MNiSW:  Publikacje w czasopismach spoza listy 2019
Punkty MNiSW: 5
Klasyfikacja Web of Science: Proceedings Paper


DOI LogoDOI     Web of Science Logo Web of Science    
Keywords:

copper oxide  thermal oxidation  PVD  



Abstract:

CuO films compose of copper oxide nanorods and nanograins with fcc type of structure have been prepared by multistep PVD / thermal oxidation method at different temperatures of annealing (400, 500and 600 degrees C). Ni-C nanocatalyst films was the factor lowering temperature and duration time of thermal oxidation (in comparison with literature data for similar methods) in which nanorods have been obtained. Obtained nanostructural films (composed of 1D and 2D objects) were characterized with XRD, SEM, EDX and Raman spectroscopy. All applied methods proved that the CuO nanostructural film is formed due to thermal oxidation of prepared multilayer film.